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    CEW-6000熒光磁粉探傷機系機電分立式半自動熒光磁粉探傷設備，由電源控制系統、夾持磁化裝置、磁懸液噴淋系統，熒光系統等幾大部分組成，適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的各種工件表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。

    本設備采用手動、自動兩種運行方式，由可編程控制器（MITSUBISHI PLC）集中控制。手動時，可進行每個功能的單步獨立操作；自動時，設備自動執行PLC內部程序，工件上料到位后，按啟動按鈕，可實現工件夾緊——磁化——松開等一系列動作。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組方角線圈，具有良好的磁化效果。交流磁化均帶斷電相位控制，具有較好的剩磁穩定度，既適用于連續法探傷檢查，又適用于剩磁法探傷檢查。復合磁化在工件上形成旋轉磁場，一次性顯示磁跡，具有較高的工作效率。

技術參數

周向磁化電流：AC 0-6000A有效值，連續可調，DC 0-3200A(標準試棒，半波兩倍于平均值) 平均值，連續可調

縱向磁化磁勢：AC 0-18000AT，有效值，連續可調

磁化靈敏度：15/50A1型試片顯示清晰

暫載率：≥25%

電極間距：250-1800mm，可調

運行方式：手動、自動運行

磁化方式：周向、縱向、復合磁化

尾架電極箱運動方式：電動

夾緊方式：氣動

退磁方式：自動衰減式退磁

縱向退磁磁勢：AC：18000-0 AT，有效值，連續可調

周向退磁電流：AC：6000-0 A，有效值，連續可調

退磁效果：≤160A/M（0.2mT）

電源：三相四線380V±10% 50HZ     大瞬時380A

外形尺寸：3500（長）×1100（寬）×1650（高）mm

重量：約2800Kg

CEW-2000（見下圖）

CEW-6000（見下圖）

CEW-9000（見下圖）